Annealsys Mc050 सिस्टम

हम अपने ग्राहकों को Annealsys MC050 सिस्टम का उत्पादन और आपूर्ति कर रहे हैं। यह एक 2-इंच DLI-CVD/DLI-ALD रिएक्टर है जिसे विशेष रूप से अनुसंधान और विकास इकाइयों की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए विकसित किया गया है। इसे धातु और धातु मिश्र धातुओं, ऑक्साइड और नाइट्राइड के जमाव के लिए सीवीडी और एएलडी प्रक्रियाओं के लिए डिज़ाइन किया गया है। यह एकल क्रिस्टल वेफर्स (जैसे YBCO/LAO, STO/MgO, MxOY/LAOA) पर ऑक्साइड की हेटेरोएपिटैक्सी करने की अनुमति देता है और ठोस और तरल ऑर्गोमेटेलिक वाष्पशील अग्रदूतों की एक विस्तृत श्रृंखला का उपयोग करके DLI-CVD द्वारा अनाकार या पॉलीक्रिस्टलाइन सबस्ट्रेट्स पर पॉलीक्रिस्टलिन ऑक्साइड जमाव करता है। अनुप्रयोगों में धातु और नाइट्राइड का जमाव भी शामिल है। इन्फ्रारेड लैंप फर्नेस और सिस्टम डिज़ाइन एक ही प्रक्रिया कक्ष के अंदर बहु प्रक्रिया क्षमता प्रदान करते हैं: CVD, ALD, RTP और RTCVD। प्रक्रिया कक्ष स्टेनलेस स्टील फ्लैंग्स के साथ एक क्षैतिज क्वार्ट्ज ट्यूब से बना है। भट्टी ट्यूबलर इन्फ्रारेड हलोजन लैंप का उपयोग करती है और तेजी से रैंप दर प्रदान करती है और इन-सीटू एनीलिंग प्रक्रियाओं की अनुमति देती है। क्वार्ट्ज ट्रे के साथ क्षैतिज गति का दरवाजा सब्सट्रेट की आसान लोडिंग और अनलोडिंग के साथ-साथ थर्मोकपल इंस्टॉलेशन प्रदान करता है। MC050 विभिन्न प्रकार के तरल वितरण और वाष्पीकरण उपकरण प्राप्त कर सकता है। सिस्टम को तरल वितरण उपकरण प्रदान किया जाता है जिसे उपयोग किए जाने वाले तरल अग्रदूतों और उनके रासायनिक विनिर्देशों के अनुसार डिज़ाइन किया गया है। अनुप्रयोग: - सरल और बहु-धातु ऑक्साइड - धातु, नाइट्राइड और मिश्र धातु - III-V, वाइड बैंड गैप सेमीकंडक्टर्स